ICP Ether 专门企业GIGA LANE (gigalane.com)将参加于6月25日至28日在韩国一山KINTEX3,4展厅举办的LED EXPO & OLED EXPO 2013，展出LED用PSS与使用在Gan Etch上的LED Etcher, MAXIS300L系列产品。
MAXIS300L是使用在形成发光效率的PSS(Patterned Sapphire Substrate)蚀刻工序与Photonics Crystal蚀刻工序，形成电极的GaN蚀刻工序等的装备。以均一的蚀刻，优秀的选择比，安定的硬件为基础，确保产品的优秀生产性。
GIGA LANE现开发并保有RIE, ICP, CCP型的单独等离子素材，使用这些素材进行多种来样加工及量产。根据相关人士的介绍，GIGA LANE自2000年开发了半导体用Etcher以来，针对MEMS及TSV市场以Deep Silicon Etcher与LED用PSS，在ICP Etcher闭门取得全球最高水准的装备认证，共保有45个核心登录特许证明。
自2006年开始运营MEMS FAB，在多种Recipe及强烈的DB基础上，保有Deep Silicon Etch,核心技术Electro Plating工序等。
今年迎来第11届的 LED EXPO & OLED EXPO 2013(www.ledexpo.com)是将关于LED,OLED照明，装备，配件，素材，研究机构等所有相关企业与机构聚集在一起，检验LED产业现状，为进一步确保国际竞争力提供战略方案。
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